産官学連携・研究活動

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後援会・ワークショップ・シンポジウム │ 大阪電気通信大学 エレクトロニクス基礎研究所

シンポジウム「原子・分子レベルの材料創製とキャラクタリゼーション」

第17回「最先端光応用-基礎研究から産業利用まで」

左右にスクロールできます。
日時 2009年12月18日(金)10:00~17:00
会場 大阪電気通信大学 寝屋川学舎 F号館小ホール
寝屋川市初町18-8 電話 072-824-1131
(京阪電鉄 寝屋川市駅より 徒歩10分)
参加費 聴講:無料
資料集代:500円
懇親会:2,000円
主催 大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
協賛 レーザ学会、応用物理学会関西支部、日本表面科学会関西支部、 日本真空協会関西支部、日本分光学会関西支部
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プログラム 12月18日(金)
10:00~10:10 主催者挨拶
大阪電気通信大学 エレクトロニクス基礎研究所 所長 越川 孝範
10:10~11:00 LEEM/PEEMを用いた表面ダイナミクス
大阪電通大 越川 孝範
11:00~11:50 休憩
11:20~12:05 テラヘルツ電磁波の発生と多様な応用
大阪大レーザ研 萩行 正憲
12:05~13:20 昼食
13:20~14:10 走査型トンネル顕微鏡発光分光による表面ナノ物性評価
東北大通研 上原 洋一
14:10~15:00 レーザアブレーションによるZnOナノ構造体の作製と応用
九州大院システム情報科学 岡田 龍雄
15:00~15:20 休憩
15:20~16:10 真空紫外光とその応用
宮崎大工 窪寺 昌一
16:10~17:00 大学の基礎研究から事業化へ-極端紫外光源の一例-
NTP 佐々木 亘
17:30~19:00 懇親会(学内生協食堂)

【送付先】

大阪電気通信大学 工学部 瀧川 靖雄
tel: 072-824-1131(内線4571)
e-mail takigawa@isc.osakac.ac.jp

【参加申し込み・問い合わせ】

下記の申し込み用紙をダウンロードし、必要事項をご記入のうえ電子メール添付、またはファックスにて下記までお送りください。
資料集代(500円)、懇親会参加費(2,000円)は当日受付にてお支払いください。

参加申し込み用紙(WORD)

【送信先】

大阪電気通信大学 エレクトロニクス基礎研究所 鉄尾 実與資
tel: 072-824-1131(内線2588) fax: 072-820-9010
e-mail feri@isc.osakac.ac.jp

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